Intel升级20nm工艺 新建晶圆厂破例参观

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化学机械抛光(CMP)车间

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照明受限的光刻车间

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一块光刻掩膜,光刻过程简单的说就是将这块掩膜上图案“缩印”到晶圆上。

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光刻过程中的“校准”
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